CARBON TETRAFLUORIDE (CF4)

-> Carbon Tetrafluoride (CF₄) là loại kim khí in khắc plasma, dùng rộng rãi nhất trong ngành công nghiệp vi điện tử hiện nay. Nó được dùng để in khắc silicon, silicon dioxide, silicon nitride, kính phosphorosilicate và vật liệu màng Volfram.

-> CF4 còn được sử dụng rộng rãi trong các lĩnh vực làm sạch bề mặt các thiết bị điện tử hay mạch in, sản xuất pin năng lượng mặt trời, công nghệ laser, khí cách nhiệt, điện lạnh, kiểm tra rò rỉ, điều khiển tên lửa vũ trụ và chất tẩy rửa trong sản xuất mạch in trong công nghiệp.

-> Sở hữu tính cực kỳ ổn định về hóa học, CF₄ cũng có thể được sử dụng trong công nghiệp nấu chảkim loại và công nghiệp nhựa.